平面平晶是用于以干涉法測量塊規(guī)，以及檢驗塊規(guī)、 量規(guī)、零件密封面、測量儀器及測量工具量面的研合性和平面度的常用工具。具有兩個（或一個）光學測量平面的正圓柱形或長方形的量規(guī)。光學測量平面是表面粗糙度數(shù)值和平面度誤差都極小的玻璃平面，它能夠產(chǎn)生光波干涉條紋（見激光測長技術）。平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用于測量高光潔表面的平面度誤差，為用平面平晶檢驗量塊測量面的平面度誤差。平行平晶的兩個光學測量平面是相互平行的，用于測量兩高光潔表面的平行度誤差，例如千分尺兩測量面的平行度誤差.平晶用光學玻璃或石英玻璃制造。圓柱形平面平晶的直徑通常為 45～150毫米。其光學測量平面的平面度誤差為:1級精度的為0.03～0.05微米；2級精度的為0.1微米。常見的長方形平面平晶的有效長度一般為200毫米。

      平晶是利用光波干涉現(xiàn)象測量平面度誤差的，故其測量方法稱為平晶干涉法（圖2）,也稱技術光波干涉法。測量時,把平晶放在被測表面上,且與被測表面形成一個很小的楔角 θ，以單色光源照射時會產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關。如入射光線垂直于被測表面，且平晶與被測表面間的間隙很小,則由平晶測量面P反射的光線與被測表面反射的光線在測量面 P發(fā)生干涉而出現(xiàn)明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現(xiàn)彩色干涉條紋。如干涉條紋平直，相互平行,且分布均勻,則表示被測表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲，則表示平面度不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)λ為光波波長，白光的平均波長為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。